化学气相沉积(CVD)
设备管理员: 黄明强
仪器简介: LPCVD系统,通过控制气体流量和腔体温度,达到石墨烯的可控生长的目的。
设备参数
仪器类别:    化学气相沉积(CVD)
仪器型号:    烯成G-CVD
生产厂家:    中国 烯成新材料科技有限公司
主要功能:    生长石墨烯
组成结构:    气路,高温炉,温度及气氛控制系统
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