光刻机

仪器简介： 紫外曝光分辨率：小于0.8μm。 加工基板尺寸：非标尺寸碎片至最大4英寸圆片，厚度0.1mm到1mm 。 掩膜板尺寸：3英寸至5英寸（边长）。 对准范围：X≧±40mm、Y≧±25mm、θ≧±5º。工作台位移精度0.1μm。 对准精度：正面±0.5μm。 曝光方式：真空接触，硬接触、软接触和微力接触曝光