课题组概况

当前位置:网站首页-研究进展

金属-黑磷接触异常温度依赖性研究

作者:XX 发布于:2017年12月15日

新闻网讯(通讯员 李学飞)1213日,《纳米快报》(Nano Letters)在线刊发了国家脉冲强磁场科学中心吴燕庆教授课题组的关于黑磷与金属接触的电输运性质的研究新成果。该论文题目为“Anomalous Temperature Dependence in Metal–Black Phosphorus Contact ”。我校为本论文第一单位,国家脉冲强磁场科学中心吴燕庆教授为论文共同通讯作者,其余作者包括课题组成员李学飞,李思超,李调阳,熊雄。

黑磷是近年来新发现的一种新型二维层状半导体材料,与石墨烯相比最大优势在于拥有带隙,且其为直接带隙半导体,具有各向异性,制备的晶体管开关比104以上,迁移率1000 cm2/V×s左右。这表明,二维黑磷场效应晶体管在纳米电子器件应用方面具有极大的潜力。由于黒磷的超薄特性,使得金属与少层黒磷接触的性能与传统意义上的肖特基结不一样,而且越过这个肖特基结的载流子的输运机制暂时也不清楚。针对这个问题,我们研究了不同温度下金属-黒磷接触的输运性能。我们阐明了使用经典的热发射理论得到的负肖特基势垒的缘由,并且解释了在转移曲线中观察到的金属-绝缘态转变的现象。本质上,我们发现背栅电压可以调节金属-黒磷之间的肖特基势垒高度。当背栅电压超过零界点时,肖特基势垒变得很小,此时传统的热发射理论不能再用来描述载流子的输运。在背栅电压的作用下,载流子从高能态服从的麦克斯韦-玻尔兹曼分布变化为低能态遵守的费米-狄拉克分布导致了金属-绝缘态转变。我们的理论与实验结果相一致,该结果对层状黑磷半导体的进一步开发和应用具有重要的理论和实际意义。

以上工作得到了国家自然科学基金委员会及我校等各类项目资助,并得到脉冲强磁场科学中心实验平台的大力支持,以及光电国家实验室微纳加工平台、分析测试中心等单位的技术支持。更多内容见:http://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.7b02278


 

联系地址:湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号华中科技大学东校区 邮政编码:430074 联系电话:027-87792334-8118 电子邮箱:wulab_hust@163.com
鄂ICP备11002378号-15   后台管理